半導体関連製造装置CMP～ケミカル・メカニカル・ポリッシング～ SPP600S
Polishing Machine
～多彩なソフトを備えた研究開発向けマニュアルCMPのベストセラー～
シリーズラインナップ
SPP600S・SPP800S・SPP1000S・SPP1200S
コンセプト
使いやすさと環境に配慮したフレンドリーCMP装置
特徴
・研究開発用途に最適なマニュアルタイプのCMP装置です。表面基準、裏面基準の各種加圧方式に対応。加工状況が1画面で全て把握できるユーザーフレンドリな画面構成となっています。
・プライマリータイム設定により、常に安定したデータ収集が可能です。本機で得られたデータは全自動ポリッシャーPNX332Bと相互にリンクでき、そのまま転用可能。
さらに、スラリーのリサイクル機構を持つなど、環境にも配慮した設計となっています。
・取り代10um以上を研磨してもウェハー形状を崩すことはありません。専用のドレッサー軸を持ち、ダイヤモンドドレッサーにも対応しています。
